国家知识产权局信息数据显现，武汉华星光电半导体显现技能有限公司请求一项名为“显现面板及显现装置”的专利，公开号CN122003034A，请求日期为2026年2月。
专利摘要显现，本请求公开了一种显现面板及显现装置中，榜首金属层设置在衬底上，榜首金属层包含多个距离设置的榜首栅极，榜首栅极被装备为晶体管的底栅，在同一时段中相邻两个榜首栅极之间具有电压差。榜首栅极包含榜首金属部和第二金属部，第二金属部设置在榜首金属部远离衬底的一侧，榜首金属部的资料为在规范氧化电位下于所述榜首金属部的标明发生钝化膜的金属。本请求施行例经过设置榜首金属部的资料为能在榜首金属部的标明发生钝化层的金属，也即榜首金属部的资料为自钝化金属，当榜首金属部发生氧化使其标明发生钝化膜时，钝化膜可以更好的下降榜首金属部的内部金属被电化学氧化腐蚀的危险，进步薄膜晶体管的稳定性。
天眼查资料显现，武汉华星光电半导体显现技能有限公司，成立于2016年，坐落武汉市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2100000万人民币。经过天眼查大数据分析，武汉华星光电半导体显现技能有限公司参加招投标项目520次，专利信息5000条，此外企业还具有行政许可385个。
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